使用等离子体技术，对材料表面进行轰击，可有效去除表面污染物，使工件表面亲水性大大提高。清洗后的水滴夹角小于5度，为下道工序的进行奠定良好基础。对ITO阳极进行表面改性，可有效优化其表面化学组成，大大降低方块电阻，从而有效提高能量转换效率，改善器件的光伏性能。

硅晶片

硅片表面非常光亮，会反射掉大量的太阳光。因此，在其上沉积一层反射系数非常小的氮化硅保护膜是非常必要的。通过等离子体处理，可活化硅片表面，提高亲水性，大大提高其表面附着力。